Globalnim tržištem fotonaponskih ćelija dominiraju ćelije od kristalnog silicija. Poboljšanje učinkovitosti i smanjenje troškova baterije od kristalnog silicija ključ je razvoja fotonaponske industrije. Od početnih masovno proizvedenih aluminijskih ćelija stražnjeg polja, do PERC (pasivacija emitera i povratni kontakt), do HJT (heterospoj unutarnjeg amorfnog sloja) ćelija i TOPCon (kontaktne ćelije tunel oksida pasivacije) i budućih laminiranih ćelija, učinkovitost fotonaponskih ćelija približava se granici, što dovodi do proboja u troškovima i opsegu.
Iako je tehnologija fotonaponskih ćelija ponovljena i učinkovitost je poboljšana, osnovno načelo i temeljni proces ćelija od kristalnog silicija nisu se promijenili, odnosno čišćenje kašmira, difuzijski čvor, pasivni premaz, metalizacija u četiri koraka.
1) čišćenje Čišćenje flockingom uglavnom se koristi za uklanjanje nečistoća i oštećenog sloja na površini silicijske pločice, flocking se koristi za formiranje piramidalne strukture na površini silicijske pločice kako bi se smanjila refleksija.
2) PN spoj je središnja struktura fotonaponskih ćelija. Obično je prikladan za baterije s homogenim spojem.
3) pasivacijski film se formira na površini ćelije vakuumiranjem, što igra ključnu ulogu u poboljšanju učinkovitosti ćelije i glavno je polazište poboljšanja učinkovitosti ćelije.
4) Metalizacija se koristi za oblikovanje prednje i stražnje elektrode fotonaponske ćelije, obično sitotiskom. Proces metalizacije usko je povezan s procesom pasivizacije i igra ključnu ulogu u smanjenju manjinske rekombinacije i gubitka otpora. Osim toga, također uključuje jetkanje, otkrivanje i druge opće korake, u različitim baterijskim tehnološkim linijama male razlike.